Skenovací elektronový mikroskop

Skenovací elektronový mikroskop VEGA3 LMU slouží k pozorování vzorků s běžným rozlišením až 10 nm. Přístroj je použitelný například pro pozorování kvality povrchu (rýhy, škrábance atd.), měření rozměrů struktur na povrchu, k měření velikosti částic apod. V kombinaci s prvkovou analýzou (EDS) je schopen určit zastoupení prvků na povrchu vzorků, a to včetně řádkové analýzy a plošného mapování. To může být použito například pro stanovení homogenity pokrytí vzorku nebo ke změření tloušťky vrstvy, je-li možné udělat vzorkem příčný řez.

Požadavky na vzorek

  • maximální laterální velikost vzorku je cca 14 cm, výška ideálně do 5 cm
  • výhodou je vzorek vodivý, příp. vzorek, který je možné pokovit (typicky vrstvou zlata nebo uhlíku)
  • vzorek musí být upevnitelný tak, aby se během měření nehýbal
  • vzorek musí být suchý, čistý a vydržet podmínky vakua

Ukázky

Snímek slinutého kovového materiálu, získaný se zvětšením 5000. Vedlejší obrázek představuje mapu prvkového složení (wolfram zeleně, kobalt červeně).


Snímek kovové vlny, získaný se zvětšením 566. Oproti běžnému optickému mikroskopu má obrázek mnohem větší hloubku ostrosti. Vedle něj je stereoskopický obrázek, který má při pozorování přes červeno-modré brýle plastický charakter.

Technické parametry a možnosti měření

  • zobrazovací měřicí režimy: sekundární elektrony (SE), zpětně odražené elektrony (BSE), prošlé elektrony (STEM)
  • prvková analýza: rozlišení cca 130 eV, plošná, bodová, řádková a plošné mapování
  • urychlovací napětí: 1 až 30 kV
  • možnost měření i za sníženého vakua (tlak cca 100 Pa)
  • standardní držák pro malé vzorky umožní měřit až 7 vzorků na jedno vložení